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真空高溫梯度加熱臺

點(diǎn)擊量:162次?|?發(fā)布時間:2026-01-14

真空高溫梯度加熱臺

一、概述

  真空高溫梯度加熱臺,使用兩片氮化硼絕緣加熱片,對指定長條型金屬樣品兩端分別進(jìn)行加熱,并使樣品兩端達(dá)到不同溫度,同時加熱回路與樣品間具有一定絕緣性。另外包含一個加熱測試真空室。


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二、技術(shù)參數(shù)要求

  可安裝金屬樣品尺寸:14*6*1mm

  加熱臺工作環(huán)境:真空環(huán)境,真空度好于1*10-4Pa

  加熱要求:中心6mm長度區(qū)域內(nèi)形成溫差,在該區(qū)域的兩端分別安裝熱電偶進(jìn)行測溫,并能夠分別進(jìn)行溫度控制:一端為700℃,另一端為400℃。

  加熱臺外形:尺寸不大于100*100*100mm。金屬樣品正面無遮擋,不影響束流及紅外測溫。

  加熱臺輸入電流/電壓要求:直流,電壓不超過40V。加熱臺底座帶真空水冷臺,水冷臺尺寸不超過160*120*30mm。

  絕緣要求:在達(dá)到上述要求溫度時,加熱回路對樣品的漏電流小于1微安。

  氮化硼絕緣加熱片:電阻小于10歐,600℃以下漏電流小于10nA,最高工作溫度1500℃,最大功率不小于200W,附帶2個50mm長M2的Ta電極螺桿,以及4個M2的Ta螺母。

  加熱測試真空室:真空室腔體尺寸不小于300mm*200mm*130mm,壁厚不小于8mm。上蓋板采用O圈密封,兩側(cè)具有CF100法蘭接口及CF80法蘭接口。CF80法蘭可與CF80真空插板閥連接,CF100法蘭蓋板焊接2個水冷管路接口。真空室側(cè)壁上具有1個高真空BNC連接器及1個14芯真空密封航空插頭。真空室漏率好于1*10-9Pa*m3/s。供貨方依據(jù)以上技術(shù)參數(shù)進(jìn)行設(shè)計(jì)及加工制作。

加熱臺

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